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儀器簡(jiǎn)介：

美國(guó)光學(xué)膜厚儀，廣泛應(yīng)用于各種薄膜、涂層光學(xué)常數(shù)(n and k)和厚度的精確測(cè)量，設(shè)備分為在線和離線兩種工作模式，操作便捷，幾秒鐘內(nèi)即可完成測(cè)量和數(shù)據(jù)分析，USB 連接計(jì)算機(jī)控制；

薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計(jì)算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)，我們的薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度。

應(yīng)用：

半導(dǎo)體（光刻膠、氧化物和氮化物等），

液晶顯示器（ITO， Polyimide， Cell gap），

法醫(yī)鑒定、生物薄膜和材料；

墨水、礦物、染料、化妝品；

硬質(zhì)涂層、減反射涂層、濾波涂層；

醫(yī)藥、醫(yī)療器件；

光學(xué)薄膜、TiO2， SiO2， Ta2O5；

半導(dǎo)體化合物；

功能薄膜（MEMS/MOEMS）；

非晶硅、納米晶硅、晶體硅；

技術(shù)參數(shù)：

測(cè)量范圍：20 nm to 50 μm (Thickness only)，

100 nm to 10 μm (Thickness with n and k) ；

多層測(cè)量：Up to 4 layers；

光點(diǎn)大小調(diào)節(jié)范圍：0.8 mm to 1 cm ；

薄膜厚度測(cè)量精度：±0.5%；

厚度測(cè)重復(fù)性：0.1nm；

樣品臺(tái)尺寸：200 mm × 200 mm；

主要特點(diǎn)：

*基片折射率和消光系數(shù)測(cè)量；

*薄膜厚度測(cè)量，平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析；

*薄膜折射率和消光系數(shù)測(cè)量；

*適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片；

*測(cè)試數(shù)據(jù)輸出和加載；

*直接Patterned或特征機(jī)構(gòu)的試樣測(cè)試；

*可用于實(shí)時(shí)在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測(cè)；

*波長(zhǎng)范圍可選；

*系統(tǒng)配備強(qiáng)大的光學(xué)常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫，便于測(cè)試和數(shù)據(jù)分析；