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儀器簡介：

應用：

◆多種成像方式（亮場、暗場、DIC及365nm UV成像等）可用于不同材料特性的分析；

◆**樣片尺寸可達8英寸，分辨率達0.13um；

◆先進的檢測方式可用于硅片、光罩和其他材料的失效分析及工藝控制。

技術參數：

半自動化的光學檢測設備，被廣泛應用于檢測硅片、光罩、MEMS以及相關產品。采用了高質量的Leica 鏡頭，配激光自動聚焦系統(tǒng)。

主要特點：

◆具紫外光成像功能，成像清晰，分辨率高；

◆模組自動化程度高；

◆軟件操作簡單易學；

◆機型小巧，產能高。