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Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發鍍膜儀

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天美儀拓實驗室設備（上海）有限公司

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產品介紹

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Q150V Plus為高真空鍍膜應用做了優化設計，極限真空度可達1x10-6mbar。結合潘寧規和皮拉尼規的使用，可以使易被氧化的金屬形成超小尺寸的顆粒，以實現高分辨率成像。高真空腔室也可以將氮氣，氧氣和水完全除去，避免在濺射過程中因化學反應導致雜質和缺陷形成。較低的濺射速率還可獲得高純度和高密度的無定型碳膜。

產品特點

1. 極限真空度可達1x10-6mbar

2. 新的LED狀態指示燈

3. 16G內存可以存儲1000個以上條件設置記錄

4. 新軟件允許多用戶界面設置

5. 新的電容觸摸屏設計

獲取更多信息，請訪天美儀拓實驗室設備（上海）有限公司網站

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Q150V Plus超高真空離子濺射/熱蒸發鍍膜儀

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