粉體行業(yè)在線展覽
FE系列磁控濺射臺
面議
福宜真空
FE系列磁控濺射臺
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4in.三靶聚焦共濺射鍍膜系統(tǒng),可以滿足多組份或多層金屬和化合物濺射鍍膜,樣品臺同時具備公轉和自傳功能,可以同時安裝多片100mm樣品,薄膜厚度均勻性達到5%,靶材利用率達到40%以上。強磁場設計,可以滿足鐵磁材料濺射。濺射陰極主體采用聚四氟乙烯設計,優(yōu)化水冷設計,可以滿足大功率密度濺射,成膜速率提高30%以上。
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