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儀器簡(jiǎn)介

美國(guó)CETAC的激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線源于全球行業(yè)翹楚之一的Photon Machines團(tuán)隊(duì)（縮寫(xiě)PMI），其**代產(chǎn)品于1995年問(wèn)世，該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造及應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，產(chǎn)品線涉及213nm固態(tài)激光、193nm準(zhǔn)分子激光、飛秒激光系統(tǒng)（與ICP-MS聯(lián)用），及CO₂和二極管激光熔融系統(tǒng)（與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用），此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強(qiáng)并完善系統(tǒng)的功能，足以為全球元素分析用戶(hù)提供先進(jìn)的激光剝蝕技術(shù)。

Analyte HE 準(zhǔn)分子激光剝蝕系統(tǒng)采用精細(xì)化控制單元，高能量的“平頂 (homogenized-flat)”激光和飛速響應(yīng)的“邊對(duì)邊 (shot-to-shot)”技術(shù)帶來(lái)高分辨率空間分析能力。創(chuàng)新的“動(dòng)態(tài)剝蝕功能 (fire-on-the-fly)”采用高分辨率XY移動(dòng)平臺(tái)技術(shù)，同時(shí)移動(dòng)平臺(tái)能夠?qū)崟r(shí)觸發(fā)激光的發(fā)射，**應(yīng)用于線掃描的深度剝蝕和元素分布圖的分析。另外，高分辨率GigE真彩顯微攝像觀察技術(shù)，觀察單元光學(xué)分辨率小于2μm，提供透射、反射和環(huán)形可調(diào)亮度的照明和十字交叉偏振系統(tǒng)，能夠?qū)崟r(shí)顯示實(shí)時(shí)縮放的動(dòng)態(tài)寬視野場(chǎng)，實(shí)現(xiàn)快速樣品定位導(dǎo)航。結(jié)合足夠高的剝蝕能量(50J/cm²)，Analyte HE能夠輕松剝蝕各類(lèi)樣品甚至是具有挑戰(zhàn)性的物質(zhì)，包括高純石英、彈性碳酸鹽等樣品，同時(shí)光束能量均勻化分布，以確保在整個(gè)光斑尺寸范圍內(nèi)和各種材料上均勻剝蝕。

應(yīng)用范圍

樣品種類(lèi)

石英/螢石；方解石/文石/鋯石；透明和半透明類(lèi)樣品；骨頭/化石；陶瓷；塑料；超薄涂層/鍍層；各種礦物等。

主要性能參數(shù)

■ 超短193nm激光波長(zhǎng)

■ 脈沖寬度＜20ns

■ 足夠剝蝕石英及螢石的能量密度，高達(dá)50J/cm²

■ 密閉氣室

■ 激光束能量分布均勻化，剝蝕均勻

■ 標(biāo)配100x100mm移動(dòng)平臺(tái)，可選150x150mm平臺(tái)

■ 同步“動(dòng)態(tài)剝蝕功能”實(shí)現(xiàn)精確的剝蝕深度控制

■ 獨(dú)立的視頻和激光光學(xué)控制單元，能夠更好的查看樣品剝蝕點(diǎn)

■ 剝蝕光斑范圍1-170μm

■ 標(biāo)配30個(gè)剝蝕光斑，光斑可定制

■ 標(biāo)配HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池