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1、產品信息   

2、產品規格

定制

3、產品概述

Mo（鉬）靶材是一種用于物理蒸發沉積和物理氣相沉積的材料，通常用于制備薄膜和涂層。鉬靶材具有良好的化學穩定性和熱穩定性，可用于制備具有特殊電學、光學和磁學性能的材料。它在半導體、光學涂層、磁性材料和其他電子器件的制備中具有廣泛的應用。鉬靶材通常以圓盤或矩形形式供應，可根據客戶的需求進行定制加工。

4、產品用途

半導體行業：用于制備薄膜材料，如氧化鉬薄膜，用于電子器件的制備。

光學涂層：用于制備具有特殊光學性能的涂層，如反射鏡、濾光片等。

磁性材料：鉬靶材也可以用于制備磁性薄膜，用于磁存儲器件、傳感器等。

其他電子器件：用于制備電子器件的功能性薄膜，如傳感器、顯示器件等。